多晶硅鑄錠爐石墨三瓣堝西格里石墨R6140多晶硅鑄錠爐石墨三瓣堝西格里石墨R6140

鴻奈德石墨提純：占化學提純和物理提純兩種方法。

　　(1)化學提純是利用石墨耐酸、堿、抗腐蝕的性質(zhì)，用酸、堿處理石墨精礦，使雜質(zhì)溶解，然后洗滌掉，提高精礦品位?；瘜W提純可獲品位為99%的高碳石墨?；瘜W提純有多種方法，國內(nèi)應用的是*高溫熔融法。

　　基本原理是在500℃以上高溫條件下，使石墨中的雜質(zhì)(以硅酸鹽礦物為主)與燒堿，即NaOH起反應，生成水溶性反應物，用水浸取反應物，即可消除掉部分雜質(zhì)，另一部分雜質(zhì)，如鐵的氧化物，堿熔后用HCl中和，生成可溶子水的氯化鐵，用水洗滌即可除去。

　　上述工藝流程中，NaOH濃度為50%左右，與石墨按1：0.8的比例混合，即生產(chǎn)1t高碳石墨消耗NaOH0.4t左右。HCl的加入量約為石墨的30%。燃料用煤約為o.6一o.7t。堿熔法所用設備主要有錨式攪拌機，熔融爐、螺旋漿攪拌機、V型洗滌槽等?；厥章?5—90%，投資15—20萬元。這種，工藝雖較優(yōu)良，但也存在耗水量大、石墨流失多，生產(chǎn)率較低，耗堿量大，且排放的廢液污染環(huán)境等不足，臺州市鴻奈德鴻奈德碳素制品有限公司。

　　由上原因，成本較高。為解決或改善上述不足，河南省地礦廳巖礦測試中心研制了提純高碳石墨新工藝，以離心洗滌取代V型洗滌槽，將廢液處理后循環(huán)使用。采用這種新工藝，可降低材料成本50%左右，節(jié)水50%左右，產(chǎn)率提高10%左右，并減少了廢液對環(huán)境的污染。石墨固定碳含量大于99%，回收率達92.8%。

　　(2)物理提純即高溫提純，利用石墨耐高溫的性質(zhì)，將其置于電爐中，隔絕空氣加熱到2500℃，使灰分(即雜質(zhì))揮發(fā)掉，從而提高精礦品位。高溫提純可獲品位為99.9%的高純石墨。

超薄VC（Vapor Chamber，均溫板）的石墨模具是其生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵工具，主要用于真空腔體的精密加工和散熱結(jié)構(gòu)的成型。以下是關(guān)于超薄VC石墨模具的詳細解析：

1. 石墨模具的核心作用

高導熱性：石墨的導熱性能優(yōu)異（可達100~400 W/m·K），能快速傳遞熱量，確保VC腔體材料（如銅、不銹鋼）均勻受熱成型。

高溫穩(wěn)定性：在釬焊（600~900℃）或擴散焊工藝中保持尺寸穩(wěn)定，避免熱變形影響VC密封性。

低熱膨脹系數(shù)：高溫下尺寸穩(wěn)定，避免模具變形影響VC厚度精度。

易加工性：石墨可精密雕刻復雜微結(jié)構(gòu)（如支撐柱、溝槽），滿足超薄VC（0.3mm以下）的微通道設計需求。

2. 超薄VC 模具的設計要點

微結(jié)構(gòu)精度：需通過CNC或激光加工實現(xiàn)微米級精度（如50μm以下的毛細結(jié)構(gòu)），直接影響VC的散熱效率。

薄壁強度優(yōu)化：模具需在超?。?.1~0.5mm）條件下保持強度，避免燒結(jié)過程中破裂。

表面處理：部分模具會采用抗氧化涂層（如碳化硅），延長使用壽命。

真空兼容性：模具需避免多孔結(jié)構(gòu)，防止高溫下氣體釋放污染VC腔體。

3. 制造工藝關(guān)鍵點

材料選擇：≥99.95% 等靜壓石墨，雜質(zhì)含量需低于50ppm，密度≥1.8g/cm3。

加工技術(shù)：

CNC精雕：用于復雜3D結(jié)構(gòu)，刀具直徑可能小至0.1mm。

脫模設計：超薄VC易粘連，模具需設計梯度脫模角或使用脫模劑。

4. 行業(yè)應用與挑戰(zhàn)

應用場景：5G手機（如iPhone的VC散熱模組）、高性能芯片（如GPU/CPU均熱板）。